由于在生物重要手段、化學(xué)及醫(yī)學(xué)等領(lǐng)域有巨大潛力，微流控芯片技術(shù)廣泛應(yīng)用于藥物篩選穩定性、新藥開發(fā)及癌癥研究等多個(gè)領(lǐng)域像一棵樹，其中微流控芯片的制備是科研人員關(guān)注的熱點(diǎn)過程中。傳統(tǒng)制作微流控芯片的工藝流程比較復(fù)雜，制作周期較長(zhǎng)全面協議，且一般需要凈化間及其他昂貴的設(shè)備。3D打印具有成本低廉具體而言、制作快速的優(yōu)勢(shì)工具，因此基于3D打印技術(shù)制作微流控芯片成為一種替代方案。目前3D打印技術(shù)主要用于制作模具喜愛，但打印得到的模具需要后續(xù)處理才能進(jìn)行聚二甲基硅氧烷（PDMS）等結(jié)構(gòu)復(fù)制重要的角色，因此延長(zhǎng)了微流控芯片的制備周期，不利于快速設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)進(jìn)行原型驗(yàn)證向好態勢。近年來(lái)平臺建設，通過(guò)數(shù)字光處理（DLP）技術(shù)制作一體化封閉管道和接口的研究備受關(guān)注，它通過(guò)合并微通道貢獻力量、閥門及出入口進(jìn)行打印使用，是“一步"制作方法，且無(wú)需鍵合去創新、翻模等工藝足夠的實力，因此成為科研人員關(guān)注的熱點(diǎn)。 

近期結構，上海交通大學(xué)研究人員基于DLP技術(shù)設(shè)計(jì)了一種側(cè)面打印方式更適合，并通過(guò)該技術(shù)制備一體化封閉管道和接口的微流控芯片，初步驗(yàn)證了側(cè)面曝光打印技術(shù)未來(lái)在微流控芯片及微納制造領(lǐng)域中的應(yīng)用溝通協調。相關(guān)研究成果以“基于側(cè)面DLP的3D打印技術(shù)制作微流控芯片"為題發(fā)表在期刊《微納電子技術(shù)》上要素配置改革。

研究人員首先設(shè)計(jì)和構(gòu)建了側(cè)面DLP 3D打印系統(tǒng)（圖1、2）保障性，投影光機(jī)使用30w帶動產業發展、波長(zhǎng)405nm的紫外LED作為光源，數(shù)字微鏡器件裝置是DLP光機(jī)的核心部件十分落實，該裝置含有上百萬(wàn)個(gè)按序排列的微型鏡片必然趨勢，每個(gè)鏡片對(duì)應(yīng)于成像圖片中的一個(gè)像素。利用計(jì)算機(jī)向投影儀輸入數(shù)字圖像或視頻后擴大，光源與鏡片組配合使投影儀可清晰地投射出數(shù)字圖像多樣性。為實(shí)現(xiàn)三維物體打印，研究人員通過(guò)Y軸位移平臺(tái)控制打印平臺(tái)移動(dòng)新格局，設(shè)置Y軸單層厚度完成逐層打印明顯。

圖1 側(cè)面DLP 3D打印技術(shù)的原理圖

圖2 側(cè)面DLP 3D打印系統(tǒng)的機(jī)械結(jié)構(gòu)圖

接著，研究人員設(shè)計(jì)搭建了4F雙遠(yuǎn)心光路系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)投影系統(tǒng)成像顯示，4F系統(tǒng)將小孔光闌放在光學(xué)系統(tǒng)的中間創新為先，使物面位于物鏡的前焦面真正做到，在4F系統(tǒng)的中間焦面即物鏡后焦面、筒鏡前焦面放置光闌創新延展，像面位于筒鏡后焦面強化意識。圖3為打印系統(tǒng)的光路示意圖，可調(diào)光闌放置于物鏡（焦距F1=100mm基本情況，雙膠合透鏡）和筒鏡（焦距F2=160mm現場，平凸透鏡）的共焦面位置，二維投影由DMD發(fā)出后通過(guò)4F系統(tǒng)成像至打印平臺(tái)力量。

圖3 側(cè)面DLP 3D打印系統(tǒng)的光路示意圖

而后我有所應，研究人員采用一步法制備了微流控芯片。具體地深入實施，研究人員設(shè)計(jì)了中空管道模型至關重要，并利用側(cè)面DLP曝光體系打印模型，圖4為利用側(cè)面曝光系統(tǒng)實(shí)現(xiàn)逐層打印中空管道的過(guò)程功能，將結(jié)構(gòu)內(nèi)部未被固化的樹脂沖洗之后即可得到中空管道應用的因素之一。并設(shè)計(jì)了U型管和多支路管道模型用于一體化封閉管道的打印測(cè)試，圖5和圖6分別為單接口和雙接口兩種一體化封閉管道的模型及打印結(jié)果預期，設(shè)置單層厚度為100μm善於監督，單接口模型中曝光時(shí)間設(shè)置為8層基底層各曝光12s，52層普通層各曝光9s就能壓製，整個(gè)模型打印時(shí)長(zhǎng)27min更合理。打印完成后對(duì)打印結(jié)構(gòu)進(jìn)行后處理，并對(duì)管道灌入紅色和綠色染料測(cè)試打通率更優美。其中單接口管道模型的管道直徑為1mm各方面，打通率為100%。雙接口管道模型的管道直徑為0.5mm成效與經驗，打通率也為100%適應性。

圖4 逐層打印中空管道流程圖

圖5 單接口管道模型及打印結(jié)果

圖6 雙接口管道模型及打印結(jié)果

最后，為測(cè)試多層互連管道的打印情況稍有不慎，研究人員設(shè)計(jì)了雙層U型互連管道重要作用，并進(jìn)行打印測(cè)試，圖7（a）為雙層互連U型管的STL 模型圖最為顯著，設(shè)計(jì)模型高度為5mm尤為突出，圖7（b）為模型的部分切片圖，設(shè)置單層切片厚度為50μm環境，曝光時(shí)間設(shè)置為8層基底層各曝光9s空間載體，92層普通層各曝光4s，整個(gè)模型的打印時(shí)長(zhǎng)為40min。打印完成后對(duì)打印結(jié)構(gòu)進(jìn)行后處理重要組成部分，并對(duì)管道灌入黃色染料測(cè)試打通率流程，圖7（c）和（d）為打印的多層互連管道正面和側(cè)面圖，其中管道直徑為0.8mm勃勃生機，兩層U型管和連通管道均打通助力各業。 

圖7 多層互連管道打印結(jié)果 

綜上所述，該項(xiàng)研究基于數(shù)字光處理（DLP）技術(shù)提出了一種新型的側(cè)面曝光打印技術(shù)提供有力支撐，并利用4F光路以及運(yùn)動(dòng)系統(tǒng)完成平臺(tái)搭建應用。該3D打印系統(tǒng)的投影圖像分辨率為12.5μm，靶面約為16mm × 10mm科技實力。相比常用的上曝光或下曝光3D打印技術(shù)處理，其容易消除氣泡且裝置簡(jiǎn)單建設。通過(guò)對(duì)封閉管道打印機(jī)制分析及實(shí)驗(yàn)優(yōu)化在此基礎上，可實(shí)現(xiàn)直徑400μm的圓形或邊長(zhǎng)400μm的方形等封閉管道打印。為驗(yàn)證側(cè)面曝光打印平臺(tái)打印微流控芯片的可行性前來體驗，設(shè)計(jì)具有一體化封閉管道和接口的模型進(jìn)行打印測(cè)試自主研發，40min可以打印一個(gè)6mm厚的微流控芯片，管道打通率為100%更加廣闊。結(jié)果表明該平臺(tái)可用于快速制作微流控芯片損耗，未來(lái)可用于微流控及微納制造領(lǐng)域。